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東京大学の研究チーム PFビームラインにて薄膜内で銅が膜面に垂直に磁化することを実証

物構研トピックス
2017年4月14日
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東京大学大学院 理学系研究科の岡林 潤 准教授らの研究チームは、コバルトと白金の界面に数原子層の厚さの銅を挿入すると、銅が膜面に対して垂直に磁化することを、フォトンファクトリーの放射光を用いた測定法により世界で初めて明らかにしました。東京大学大学院理学系研究科スペクトル化学研究センター運営のビームラインBL-7Aに備え付けのX線磁気円二色性(XMCD)測定装置等を用いて元素別に磁気状態を調べ、計測と計算から求めた結果です。

コバルトと白金の界面では膜面に垂直方向に磁化が揃うことが知られていましたが、磁気記録に広く用いられている銅によって磁気特性を操作できるということは、材料や素子の設計を行う上で極めて重要な指針を与えるものです。

右図は設計した構造の模式図です。(東京大学のプレスリリースより引用)

本成果は、2017年4月13日(英国時間午前10時)に、英国科学雑誌 Scientific Reports オンライン版に掲載されました。

東京大学のプレスリリースはこちら

論文情報
掲載誌:Scientific Reports
Induced perpendicular magnetization in a Cu layer inserted between Co and Pt layers revealed by x-ray magnetic circular dichroism

フォトンファクトリー ビームラインBL-7Aの情報はこちら

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