ウェーク場を励起するポンプパルス以外にそれに対向する超短パルスレーザーを用いて背景プラズマ電子を直接ウェーク場の加速位相に入射する方法で、衝突光パルス入射方式と呼んでいます。PIC（Particle-in-cell）コードによる数値シミュレーションでは、0.5 mmの加速長で9MeVまで電子が加速され、バンチ幅7 fs, エネルギー分散1%のビームが得られることが示されました。エミッタンス0.3πmm・mrad、ピーク電流1.5kAの相対論的電子ビームを卓上型装置で発生することが可能になります。
赤：レーザー場
青：ウェーク場
緑：電子ビーム
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