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共同利用・共同研究 / Joint research

共同研究先 / Joint research partner

  • 秋田工業高等専門学校 / National Institute of Technology, Akita College
  • 大阪大学 / Osaka University
  • 慶應義塾大学 / Keio University
  • 総合研究大学院大学 / The Graduate University for Advanced Studies
  • 東京理科大学 / Tokyo University of Science
  • 東北大学 / Tohoku University
  • 名古屋大学 / Nagoya University
  • 広島大学 / Hiroshima University

  • 産業技術総合研究所 つくばセンター / National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Tsukuba center
  • 産業技術総合研究所 中国センター / National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Chugoku Center
  • 量子科学技術研究開発機構 / National Institutes for Quantum Science and Technology

  • 株式会社アクセルレーター / Accelerator Inc.
  • 株式会社千代田テクノル / Chiyoda Technol Corporation
  • 東亜道路工業株式会社 / Toa Road Corporation
  • 株式会社東芝 / Toshiba Corporation

  • Brookhaven National Laboratory
  • Canada's particle accelerator centre (TRIUMF)
  • Cornell University
  • Deutsches Elektronen-Synchrotron
  • the European Organization for Nuclear Research (CERN)
  • European XFEL
  • Fermi National Accelerator Laboratory
  • Helmholtz-Zentrum Berlin
  • Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf
  • Institute of Modern Physics, Chinese Academy of Sciences
  • SLAC National Accelerator Laboratory

  • 共同研究内容 / Contents of joint research

  • cERLを用いた最先端加速器技術の開発(高輝度電子銃、大電流ビーム加速用超伝導空洞、ビームダイナミクス、ERL、FEL、テラヘルツ光など) / Development of cutting-edge accelerator technology using cERL (high-brightness electron gun, superconducting cavity for high-current electron beam, beam dynamics, ERL, FEL, terahertz light, etc.)
  • 電子ビーム照射によるアスファルトの長寿命化 / Life extension of asphalt by electron beam irradiation
  • 電子ビーム照射による核医学検査薬製造(モリブデン99) / Manufacture of nuclear medicine reagents (Molybdenum 99) using electron beam irradiation
  • 電子ビーム照射によるナノセルロース高効率生成 / Efficient production of nanocellulose by electron beam irradiation
  • 大強度電子ビーム用のビーム照射ターゲット開発 / Development of beam irradiation targets for high-intensity electron beam
  • 高出力赤外線FEL生成及びそれによる材料加工 / Generation of high-power infrared FEL and material processing using it
  • レーザーコンプトン散乱によるX線イメージング / X-ray imaging by laser Compton scattering
  • 半導体リソグラフィ―用EUV-FEL光源の基礎技術開発と設計 / Technology development and design of EUV-FEL for semiconductor lithography
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