現在、フォトンファクトリー（PF）では、高度化や次期光源計画を見据えた長期的な基盤技術の開発を行うための開発研究多機能（R&D）ビームライン BL-11A および 11B の建設を進めている。R&D ビームラインにおける開発研究を通して、ビームライン基盤技術の更なる深化だけでなく、放射光施設に関わる人材の育成にも貢献していくことを目指している。PF の次期計画の候補として検討されている PF-HLS 計画では、2 つのビームを同時に用いるマルチビーム利用が大きな特徴の一つとなっている。R&D ビームラインにおいては、光学素子の切替えおよび再設置を行うことで、硬 X 線と軟 X 線二つのビームを同位置に同時に照射する 2 ビーム利用が可能な設計となっている。将来光源の実現に向けて、2 ビーム利用の技術開発と試験的測定の実績を積むことを目指している。