BL-7C： 汎用Ｘ線実験ステーション

概要

ビームライン群	第２分科（回折・散乱）
主な手法	単色X線汎用
特徴	独自実験装置持込利用可能 単色X線 水平方向サジタル集光可 高次光除去用全反射ダブルミラー設置 全反射ミラーによる垂直方向集光可 下向きX線ビーム利用可 イオンチェンバ用各種ガス利用可
主な研究分野	薄膜X線回折構造解析 二次X線発光分光 X線異常散乱構造解析 溶液表面XAFS XAFS関連装置以外はユーザー管理
担当者	杉山 弘 hiroshi.sugiyama★kek.jp メールアドレスは★を＠に変えてご利用ください。
備考

スペック

光源	2.5GeV PFリング 偏向電磁石(B07)
光学系	定位置出射型サジタル集光Si(111)二結晶分光器 全反射ダブルミラー
エネルギー範囲	4 ～ 20 keV
エネルギー分解能
ビームサイズ	最大　約 80 mm (H) x 8 mm (V) 最小　1 x 1 mm2 程度（集光時）
ビーム強度	最大　約 1 x 1012 photons/s/ @ 10 keV
公開している装置	X線薄膜回折計（SOR-SmartLab） X線異常散乱装置（AXS-1） X線発光分光装置（Escargot） XAFS装置 （XAFS関連装置以外はユーザー管理）
検出器	イオンチェンバ（窒素，アルゴン，およびその混合ガス）
リモート／メールイン測定	不可
特記事項

詳しい情報

• XAFS実験ステーション利用の手引き（分光器、ミラー等に関する記述有り）

参考文献

1. Shigeo SUZUKI, Masami ANDO, Kazuriobu HAYAKAWA, Osamu NITTONO, Hiroo HASHIZUME, Seigo KISHINO and Kazutake KOHRA,, A HIGH-SPEED X-RAY TOPOGRAPHY CAMERA FOR USE WITH SYNCHROTRON RADIATION AT THE PHOTON FACTORY, Nucl. Instrum. Methods in Physics Research, 227, 584 (1984), doi:10.1016/0168-9002(84)90219-5 : 垂直軸白色X線トポグラフィ装置に関連する論文（ゴニオメータ本体以外は変更）

成果一覧

KEK放射光共同利用実験研究成果データベース（BL-7Cの成果）

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Last updated: 2022-2-10