| 光源 |
- 6.5/5.0GeV PF-AR 偏向電磁石 (NE7)
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| 光学系 |
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| エネルギー範囲 |
- 20～140 keV（白色X線）
- 10～60 keV（単色X線）
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| エネルギー分解能（ΔE/E） |
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| ビームサイズ |
- 30 mm (W) x 3 mm (H) （典型的な単色Ｘ線）
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| ビーム強度 |
- 約108-9 photons/s/mm2 at 30 keV
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| 公開している装置 |
イメージング
- 汎用定盤：縦横とも約１m、高さ：約900mmから1800mm、耐加重：約200kg
- 試料位置調整治具
- 照射面積拡大用非対称光学素子（Si(111)、Si(220)、Si(311)）とゴニオメーター
高圧
- 700トン高圧力発生装置（MAX-III）
モジュール可変：DIA型、D-DIA型（D-CAP）、D111型
 MAX-III with D111型モジュール  左から、D-DIA型モジュール、DIA型モジュール
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| 検出器 |
イメージング
- 画像検出器：Ｘ線CCDカメラ（PF内に特性の異なる検出器が複数台用意されています）
高圧
- Ge-SSD（横振り）
- フラットパネル検出器（Dexela 2923）
- イメージングプレート（フラットカセット型）
- X線CCDカメラ
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| リモート／メールイン測定 |
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| 特記事項 |
全般
- 実験ハッチへのユーザー用出入口は２ヶ所あり、リング側の出入口１は医学応用を含むX線イメージング実験ユーザー等が利用し、実験ホール外壁側の出入口２は高圧実験ユーザーが利用できるように、実験機器、制御機器が設置されています。
- 両方の実験ハッチ出入口で利用するユーザーキーは１種類ですが、それぞれの出入口に ビームシャッターを開閉するためのユーザー用インターロック制御盤が設置されています。ユーザーはどちらかのインターロック制御盤を用いて放射光を実験ハッチに導くことができます。その切り替えはステーション担当者もしくは代行者がビームライン制御盤から行いますので、切り替えが必要な場合は担当者にご相談ください。
- 大型定盤等を実験ハッチに搬入するための搬入大扉は出入口１側に設置されています。この大扉の開閉についても担当者にご相談ください。
イメージング
- ユーザー持ち込みの実験装置を使用する場合は、事前に担当者までご連絡ください。
高圧
- 6-8式での加圧方式が標準となっております。
- 高圧セルは各自ご準備ください。
- Ge-SSDは通常2θ=6°固定になります。他角度での実験を希望の場合は、担当者にご相談ください。
- 高圧力発生装置が常設されておりますが、装置（モジュール）を利用しない実験や他装置持ち込みを希望される場合は、担当者にご相談ください。
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