AR-NW10A： XAFS（高エネルギー）ステーション

ビームライン群	第３分科（Ｘ線吸収分光）
主な手法	XAFS（X線吸収分光法）単色X線利用実験＜要事前相談＞
特徴	硬X線XAFS実験用の実験ステーションです。 6.5GeVのPF-ARを光源としているため、高エネルギー域での利用が可能です。 21素子Ge-SSDやクライオクーラー、自動ガスフローin situ実験設備などを備え、さまざまな試料環境での実験が可能です。
主な研究分野	材料化学材料工学地球惑星科学生物科学　　など
担当者	主担当者：城戸大貴 daiki.kido★kek.jp 副担当者：阿部仁 hitoshi.abe★kek.jp 副担当者：丹羽尉博 yasuhiro.niwa★kek.jp 副担当者：松岡亜衣 ai.kamijo★kek.jp 副担当者：仁谷浩明 hiroaki.nitani★kek.jp メールアドレスは★を＠に変えてご利用ください。
備考	XAFS実験以外での利用は、課題申請前に担当者にご相談ください。課題採択後にビームタイムを要求するには、実験計画書を提出する必要があります。詳しくはPFXAFS websiteでご確認ください。

光源	6.5/5.0GeV PF-AR 偏向電磁石（NW10）水平取り込み角 1 mrad
光学系	カム駆動型水冷二結晶分光器[Si(311)] QXAFS対応集光用湾曲円筒ミラー（Ptコーティング）高調波抑制用ダブル平板ミラー（Rhコーティング）：使用時のみ挿入
エネルギー範囲	8 〜 42 keV
エネルギー分解能（ΔE/E）	〜1 × 10^-4
ビームサイズ	1.7 mm (H) x 0.8 mm (V)
ビーム強度	6 × 10¹⁰ photons/s（25 keV）
公開している装置	標準XAFS測定装置（透過法、蛍光法） Quick Scan XAFS測定装置
検出器	電離箱 (5 cm、17 cm、31cm) ライトル検出器 21素子Ge半導体検出器
リモート／メールイン測定	不可
特記事項	持ち込み装置：可（詳細は担当者にご相談ください）実験ハッチのサイズ 4.0 m (L) x 3.2 m (W) x 2.8 m (H) 実験ハッチ扉のサイズ 2.64 m (W) x 2.4 m (H) 実験定盤のサイズ 2000 mm (L) x 1200 mm (W) 電気（最大 20A x2系統）および各種高圧ガス使用可能通常は室温、大気圧下での実験となります。温度制御可能なクライオクーラーが設置されています（300 ～ 20K、真空槽）。自動ガス混合装置と連動した電気炉によるin situ実験が可能です。

M. Nomura et al., AIP Conf. Proc., 882, 896 (2007), doi: 10.1063/1.2644697
XAFS実験ステーション利用の手引き, M. Nomura, KEK Internal 2001-5.

Last updated: 2024-8-2